金融界2023年12月19日消息，据国家知识产权局公告，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“纹路识别模组、其制作方法及显示装置“，公开号CN117256018A，申请日期为2022年3月。
专利摘要显示，纹路识别模组(001)、其制作方法及显示装置，包括纹路识别基板(101)，该纹路识别基板(101)包括衬底基板(1011)，以及在衬底基板(1011)一侧呈阵列排布的多个光敏器件(1012)；光阑层(102)，位于纹路识别基板(101)具有多个光敏器件(1012)的一侧，光阑层(102)的数量为一层，光阑层(102)包括呈阵列排布的透光孔(V)，透光孔(V)在衬底基板(1011)上的正投影位于光敏器件(1012)在衬底基板(1011)上的正投影内，透光孔(V)的深度(h)与透光孔(V)的最大孔径(d1)之比大于等于1/6且小于等于2；多个微透镜(103)，位于光阑层(102)远离纹路识别基板(101)的一侧，微透镜(103)在衬底基板(1011)上的正投影覆盖透光孔(V)在衬底基板(1011)上的正投影。
本文源自：金融界
作者：情报员
